概要

半導体やマイクロエレクトロニクスの洗浄プロセスでは、有害な薬液を用いる方法から、より環境に優しいオゾン水処理への移行が進んでいます。オゾン水は費用のかかる廃液処理を必要とせず、また室温での処理が可能であるため、コスト削減につながります。


オゾネーションモジュール

数十年にわたり、ゴアのオゾネーションモジュールは、シリコンウエハー、ロジック/メモリ、フラットパネルディスプレイ(FPD)、フォトマスクの製造工程において、より安全で環境に優しく、費用対効果の高い洗浄プロセスを可能にし、安全で効率的な表面処理および有機汚染物除去を実現してきました。

弊社が提供するオゾン溶解モジュールは、現在の業界標準を超える優れた性能を備え、安定した高濃度・流量の高清浄度かつ無気泡のオゾン水を連続生成します。ゴアオゾネーションモジュールは、半導体、マイクロエレクトロニクス、FPDの製造における洗浄プロセスを向上させる信頼性の高いソリューションであることが実証されています。